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            那諾中國有限公司
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            3 2024-12

            Kore的TOF-SIMS SurfaceSeer亮相Innovia Films

            飛行時間二次離子質譜法(TOF-SIMS)是一種高度靈敏的表面分析技術,可揭示樣品頂部幾個原子層的質譜數(shù)據(jù)。Kore很榮幸成為InnoviaFilms的TOF-SIMS供應商,InnoviaFilms...

            24 2020-7

            直擊渭南師范學院原子層沉積安裝現(xiàn)場

            上周NMC專業(yè)的售后服務工程師至渭南師范學院完成了原子層沉積系統(tǒng)NLD-3000的安裝調(diào)試,并順利驗收!NLD-3000是一款PC全自動工藝控制的臺式ALD系統(tǒng),包含完整的安全聯(lián)鎖功能,能夠沉積氧化物...

            26 2019-8

            中標喜訊|那諾中國投標競得西安電子科技大學PECVD采購招標項目

            2019年7月16日,我司成功中標西安電子科技大學等離子增強化學氣相沉積設備采購招標項目。本項目選用NANO-MASTER設計生產(chǎn)的NPE-4000系統(tǒng),該系統(tǒng)為緊湊型設計PC控制的獨立式下游式PEC...

            26 2019-8

            中標喜訊|那諾中國投標競得上海交通大學掩模板兆聲清洗機采購項目

            近日,那諾中國在“上海交通大學電子信息與電氣工程學院掩模板兆聲清洗機采購項目”的競標中,順利中標,這無疑是對NANO-MASTER綜合實力的又一次肯定!本套設備是NANO-MASTER,INC.開發(fā)的...

            13 2017-10

            ALD系統(tǒng)應用范圍再次升級

            隨著NANO-MASTER*技術的ICP源的深入應用,對于大面積的基片提供均勻高品質的薄膜生長得以實現(xiàn)。到目前為止,NANO-MASTER的ALD系統(tǒng)可以支持在任意尺寸的襯底上的擴展,這給顯示和照明等...

            12 2017-9

            北京理工大學RIE-PECVD順利安裝驗收

            今年7月,北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗收。這套設備是Nano-Master極富特色的雙系統(tǒng)設備,一套設備中實現(xiàn)反應離子刻蝕工藝,同時具備等離子增強化學氣相沉積的工藝能力,既避免客戶擔心的交叉...

            17 2017-8

            深圳先進院磁控濺射順利安裝實施

            八月初,深圳先進院磁控濺射NSC-3500安裝條件已具備,NANO-MASTER的工程師們?yōu)樯钲谙冗M院安裝調(diào)試實施。本套NSC-3500是帶機械手臂的全自動控制型號,標準配置帶有水冷或者加熱(zui高...

            3 2016-8

            微波等離子清洗機技術的Z大特點介紹

            微波等離子清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基...

            17 2016-6

            晶圓清洗機主要結構特點及工藝流程

            一.產(chǎn)品結構晶圓清洗機主要結構特點:1、采用三套獨立的電腦控制機械臂自動化作業(yè)2、采用第三代技術,全面完善的防酸防腐措施,保護到機器每一個角落3、全自動補液技術4、*的硅片干燥前處理技術,保證硅片干燥...

            15 2016-6

            微波等離子清洗機在封裝工藝中的應用及產(chǎn)品特點

            微波等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài),也叫做物質的第四態(tài)...

            15 2016-3

            單片晶圓清洗機的詳細資料概述

            單片晶圓清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備,并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力,并可用于非常廣泛的基片。單片晶圓清洗機提供了可控的化學試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表...

            12 2016-1

            反應離子刻蝕機檢驗操作及判斷

            反應離子刻蝕機是一款獨立式RIE反應離子刻蝕系統(tǒng),配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品。具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"的視窗,另一個空置用...

            17 2015-12

            帶RIE等離子刻蝕機處理模式介紹

            帶RIE等離子刻蝕機是干法刻蝕中zui常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足...

            23 2015-11

            光學元件鍍膜機使用步驟

            光學元件鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。光學元件鍍膜機使用步驟電...

            9 2015-11

            鍍膜機設備說明書

            鍍膜機設備說明書和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。①檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。②打開總電源開關,設備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。...

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