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FLATSCAN 薄膜應(yīng)力測試儀用于對各種反射面（如硅片、鏡面、X 射線鏡（Goebel-mirrors）、金屬表面或拋光聚合物）的平整度、表面曲率、平均半徑和...

高精度金剛石晶圓劃片機(jī)MR 200 系統(tǒng)軟件的設(shè)置和硬件的配置能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的劃線，從而實(shí)現(xiàn)對結(jié)構(gòu)化硅片的精準(zhǔn)切割。MR 200 是一款非常有力的工具，尤其在半...

CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...

LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。樣品表...

高分辨二次離子質(zhì)譜儀tof-sims是非常靈敏的表面分析手段，憑借質(zhì)譜分析、二維成像分析、深度元素分析等功能，廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)、細(xì)胞學(xué)、地質(zhì)礦物學(xué)、半導(dǎo)體、微電子...

SurfaceSeer I是一款高靈敏度、高質(zhì)量范圍、高分辨率的SIMS二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS），可以用于絕緣、導(dǎo)電表面的成像分析與化學(xué)成分分析。Su...

Kore SurfaceSeer I是一款高靈敏度的TOF-SIMS飛行時間二次離子質(zhì)譜儀，用于絕緣、導(dǎo)電表面的成像分析與化學(xué)成分分析。SurfaceSeer ...

Kore SurfaceSeer S在飛行時間二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）系列中，是一款高性價比且經(jīng)久耐用的產(chǎn)品。它是研究樣品表面化學(xué)成分的理想選擇，適用...

微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的微波PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源，...

光學(xué)鍍膜設(shè)備：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù)，在一個腔體中實(shí)現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...

光學(xué)鍍膜系統(tǒng)：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù)，在一個腔體中實(shí)現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...

RIE刻蝕機(jī)：獨(dú)立式RIE系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,...

進(jìn)口ALD設(shè)備：ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在...

等離子去膠機(jī)：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...

兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機(jī)械手，也可以升級...

硅片清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗...

進(jìn)口晶圓清洗機(jī)：Nano-Master進(jìn)口兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、...