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            安徽奧科試驗設(shè)備有限公司
                                                                        
            
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            冷熱沖擊設(shè)備在芯片失效分析領(lǐng)域中的應(yīng)用
            
						
            
							時間：2023/11/14閱讀：577
							
            
							
				
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            去除表面鈍化層、金屬化層和層間介質(zhì)后有時依然無法觀察到失效點，這時候就需要對芯片進(jìn)行進(jìn)一步處理，對于多層布線的芯片干法腐蝕或者濕法腐蝕來逐一去除，直至最后一層金屬化和介質(zhì)層。去玩所有的金屬化層和介質(zhì)層后，有時候還需要去除多晶硅層、氧化層等直至露出硅本體。

            由于層間介質(zhì)的材料與鈍化層材料種類基本相同，因此層間介質(zhì)的去除也是類似的，也是主要分為干法腐蝕和濕法腐蝕兩種。以高低溫沖擊設(shè)備為例，其能夠提供特性分析、高低溫溫變測試、溫度沖擊測試、失效分析等可靠性試驗。

            1、高低溫沖擊機輸出氣流罩將被測試品罩住，形成一個較密閉空間的測試腔，試驗機輸出的高溫或低溫氣流，使被測試品表面溫度發(fā)生劇烈變化，從而完成相應(yīng)的高低溫沖擊試驗；

            2、可針對眾多元器件中的某一單個IC或其它元件，將其隔離出來單獨進(jìn)行高低溫沖擊，而不影響周邊其它器件，與傳統(tǒng)冷熱沖擊試驗箱相比，溫變變化沖擊速率更快。


            
							
							
							
						
            
					
            
				
            
			
            
		
            
		
		
		
		 



  
    
    				
			

		
    
    
    
    
    
    
    
    
    
    

    

     
     
     
	 




	 
	
	
	

            
	
            
		
            
			
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