當前位置:上海巖征實驗儀器有限公司> 供求商機> 光催化反應釜
上海巖征生產的光化學高壓反應釜,使用溫度300℃內,使用壓力:10mpa,適用于光化學高壓反應、二氧化碳(CO2)還原、二氧化碳(CO2)還原制甲醇(CH3OH)、二氧化碳(CO2)還原制甲烷(CH4)、氮氧化物(Nox)的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域
設計參數(shù):
加熱功率 :1000W
設計溫度: 300℃
使用溫度: 50~250℃(50ML 使用 200℃)
控溫精度: ±1℃ (無強放熱吸熱情況下)
設計壓力: 150bar
爆破壓力 :125bar
使用壓力 ≤100bar (注 1)
標準材質: 316L (注 2)
攪拌速度: 150~1000r/min
特點:
支持多工位對比實驗;
具備探底管取樣功能;
支持催化劑過濾;
LCD 真彩色全觸摸操作界面;
鑄銅加熱器,均熱性高,傳熱快;
支持保溫計時和啟動計時,雙計時模式;
具備安全聯(lián)鎖功能,超溫超壓報警;
支持懸浮攪拌,避免攪拌子底部磨損和催化劑磨損;
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