德國BUSCH廢氣處理系統(tǒng)

普旭真空為半導體、LCD及相關(guān)行業(yè)提供了應(yīng)用廣泛的新一代廢氣處理系統(tǒng)。卓效的廢氣處理技術(shù)提供凈化到閾限值以下的氣體，同時滿足現(xiàn)有的和發(fā)展中的要求。

產(chǎn)品型號

無焰催化處理技術(shù)（AFC）

AFC是結(jié)合了無焰催化熱氧化和濕法處理技術(shù)的高溫催化劑系統(tǒng)。用于 集成到卓效單一系統(tǒng)中，旨在減少易燃，水溶性氣體并使NF3可容納高達3000SLM的高氣流。

技術(shù)特點：

??在半導體應(yīng)用和AMOLED流程中（使用大量生成氣體和NF3的粉末）非常適合CVD工藝（使用NF3作為吹掃氣體）。

??金屬蝕刻應(yīng)用的完備解決方案。

??由于電加熱器和廢氣反應(yīng)熱，催化劑區(qū)域始終保持高溫，而沒有燃燒額外的燃料（LNG）。

??減少NOx生成

??粉末和水溶性氣體被捕獲在多級潤濕區(qū)中

??降低了運行成本

??易于維護和濾芯更換

??觸摸屏顯示

濕法-等離子-濕法處理技術(shù)（APW）

APW是一個集成于單一系統(tǒng)的濕法-等離子-濕法處理技術(shù)的組合，是氧化物和多晶硅蝕刻工藝應(yīng)用的理想選擇。

技術(shù)特點：

??創(chuàng)新的濕法等離子分離設(shè)計

??耐用的反應(yīng)堆等離子炬和電源設(shè)計

??具有高氣體DRE（％）的穩(wěn)定性能

??在廢氣進入等離子反應(yīng)器之前，先將副產(chǎn)物和水溶性氣體進行預(yù)濕區(qū)去除

??有效減少CF4，C2F6，SF6等PFCs

??核心零件的使用壽命長和維護周期

??易于清潔和預(yù)防性維護

??觸摸屏顯示

燃燒-濕法處理（ABW）

ABW是集成于單一系統(tǒng)中燃燒和濕法處理技術(shù)的組合，旨在有效減少PFCs，是CVD和蝕刻工藝應(yīng)用的理想選擇。

技術(shù)特點：

??創(chuàng)新的快速燃燒濕室分離設(shè)計

??多個安全聯(lián)鎖

??燃燒室?guī)в兴浔跈C制的湍流火焰

??燃燒過程中可能產(chǎn)生的粉末和水溶性氣體被捕獲在多級潤濕區(qū)

??有效減少CF4，C2F6，SF6等PFCs

??性能穩(wěn)定

??運行成本低

??易于清潔和預(yù)防性維護

??觸摸屏顯示

德國BUSCH廢氣處理系統(tǒng)

熱式-濕法處理技術(shù)（ATW）

技術(shù)特點：

ATW將電熱和濕法處理技術(shù)結(jié)合在一個系統(tǒng)中，該系統(tǒng)旨在容納高達4000 SLM的總氣流，是重粉生成和腐蝕性應(yīng)用的理想選擇。

??創(chuàng)新的快速熱濕室分離設(shè)計

??多個安全聯(lián)鎖

??兩種減排方法的組合，即熱濕法（通過易燃和發(fā)火性氣體的無焰熱氧化改變工藝氣體的化學性質(zhì)）和水溶解（對于水溶性氣體）

??易于清潔和預(yù)防性維護

??觸摸屏顯示

濕法處理技術(shù)（AWE）

技術(shù)特點：

AWE濕式洗滌器是適應(yīng)高H2和金屬粉末生成應(yīng)用的理想選擇。

??金屬蝕刻應(yīng)用的完備解決方案

??較高的安全性和正常運行時間

??四個獨立的反應(yīng)室，配備智能入口防止堵塞功能和強大的文丘里管裝置

??內(nèi)置水循環(huán)系統(tǒng)

??降低了運營成本

??觸摸屏顯示