頂空進(jìn)樣氣相色譜法(GC-HS)是目前檢測(cè)藥物中有機(jī)殘留溶劑使用較多的方法，聚光科技（杭州）股份有限公司下屬子公司上海安譜實(shí)驗(yàn)科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“聚光科技”）嚴(yán)格按照ICH、USP、EP法規(guī)對(duì)于藥物殘留溶劑的要求，推出氣相頂空溶劑。
CNW氣相色譜頂空溶劑包含USP<467>和EP2.4.24方法中列出的用于水溶性樣品和非水溶性樣品中有機(jī)殘留溶劑分析常用的頂空溶劑，如DMSO、DMF、DMA、NMP。
下面是HPLC 級(jí)DMSO、DMF、DMA 與HS-GC（氣相頂空）級(jí)DMSO、DMF、DMA 進(jìn)行HS-GC-MS 分析譜圖對(duì)比：
下圖為不同品牌質(zhì)控指標(biāo)對(duì)比：
對(duì)比結(jié)果：安譜實(shí)驗(yàn)頂空溶劑（Class1,2,3）殘留溶劑含量均小于其他競(jìng)爭(zhēng)品牌
CNW 氣相色譜頂空溶劑具有以下優(yōu)勢(shì)：
GC-HS 級(jí)別高純?nèi)軇┣鍐危?br />
頂空溶劑實(shí)驗(yàn)小貼士
檢測(cè)器的選擇一般選用FID檢測(cè)器，對(duì)含鹵素的有機(jī)溶劑如氯仿等，采用ECD檢測(cè)器可得到更高的靈敏度。
溫度的選擇頂空溫度應(yīng)根據(jù)溶解供試品溶劑的特性及供試品中殘留溶劑的沸點(diǎn)選擇。以水為溶劑及測(cè)定低沸點(diǎn)殘留溶劑時(shí)，頂空溫度不宜超過(guò)85℃；測(cè)定沸點(diǎn)較高的殘留溶劑時(shí)，通常選擇較高的頂空溫度；以DMSO 為溶劑時(shí)，頂空溫度不宜超過(guò)115℃。
時(shí)間的確定頂空時(shí)間是要確保供試品溶液的氣- 液兩相達(dá)到平衡，一般通過(guò)測(cè)定頂空時(shí)間與頂空氣體濃度的濃度—時(shí)間曲線來(lái)確定。頂空時(shí)間不宜過(guò)長(zhǎng)，一般為30～45分鐘。
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