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展會(huì)邀請(qǐng)|速來(lái)圍觀SEMICON CHINA 2021，賽默飛帶你領(lǐng)略半導(dǎo)體全新解決方案

SEMICON CHINA

SEMICON CHINA 2021將于3月17日-19日在上海新guo際博覽中心如期舉行。作為中國(guó)的半導(dǎo)體行業(yè)盛事，囊括當(dāng)今世界上半導(dǎo)體制造領(lǐng)域主要的設(shè)備及材料廠商，該展會(huì)將為業(yè)內(nèi)人士提供高效交流、洞悉行業(yè)動(dòng)態(tài)的有效平臺(tái)。

在此，賽默飛世爾科技誠(chéng)邀您蒞臨我們的展位（展位號(hào)：N5135），觀摩我們的指尖實(shí)驗(yàn)室，與我們的技術(shù)專家共同探討失效分析解決方案。我們將展示針對(duì)半導(dǎo)體制造商和電子行業(yè)的先分析流程，助您加快產(chǎn)品缺陷識(shí)別和研發(fā)進(jìn)程，實(shí)現(xiàn)過(guò)程監(jiān)控、良率提升，及時(shí)搶占市場(chǎng)！

賽默飛半導(dǎo)體雜質(zhì)檢測(cè)

quan方位解決方案

Dionex ICS-6000 HPIC高壓離子色譜系統(tǒng)

廣泛應(yīng)用于離線和在線監(jiān)控fab AMC，超純水中陰、陽(yáng)離子的監(jiān)控以及高純?cè)噭ㄋ?、堿和有機(jī)溶劑）中陰、陽(yáng)離子分析。通過(guò)zhuan利的在線電解淋洗液發(fā)生器實(shí)現(xiàn)無(wú)需手動(dòng)配置淋洗液，實(shí)現(xiàn)操作更簡(jiǎn)單，測(cè)試結(jié)果更穩(wěn)定。

iCAP™ TQ ICP-MS

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)金屬離子痕量分析檢測(cè)。標(biāo)配4路碰撞反應(yīng)氣體，*消除多原子離子干擾；標(biāo)配有機(jī)加氧裝置，可直接分析半導(dǎo)體行業(yè)的有機(jī)試劑樣品。開放的硬件設(shè)計(jì)，使得ICPMS操作更簡(jiǎn)單，維護(hù)更方便。

Element XR HR-ICP-MS

高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

高分辨率可達(dá)10000，可區(qū)分質(zhì)量數(shù)小于0.01 amu的質(zhì)譜干擾，真正實(shí)現(xiàn)無(wú)干擾分析，并減少?gòu)?fù)雜的樣品制備和方法開發(fā)過(guò)程。應(yīng)用：高純?cè)噭?、高純材料、高純氣體中痕量元素準(zhǔn)確定量。

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Element GD Plus GD-MS

輝光放電質(zhì)譜儀

高純固體樣品直接分析，*減少樣品處理步驟，降低沾污風(fēng)險(xiǎn)。

熱門應(yīng)用：

賽默飛ELEMENT GD Plus GD-MS檢測(cè)高純Si中的Fe、Cu、Ti的深度分布

Fe、Cu、Ti（<10 ppbw）是對(duì)太陽(yáng)能電池性能損害最大的金屬雜質(zhì)：

Fe、Cu在Si中會(huì)快速擴(kuò)散，屬于間隙雜質(zhì)；

Ti擴(kuò)散速度慢，會(huì)占據(jù)Si晶格的取代位點(diǎn)（類似B、P摻雜元素）。

賽默飛ELEMENT GD Plus GD-MS半導(dǎo)體檢測(cè)高純硅，高純碳化硅，砷化鎵等，雜質(zhì)含量的檢出限可達(dá)到ppb及ppb以下。高純靶材中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)及純度鑒定，如銅，鈦，鋁，鉬及ITO等靶材，可實(shí)現(xiàn)6N+純度的鑒定。高純石墨及石墨粉的雜質(zhì)含量檢測(cè)及純度鑒定，可實(shí)現(xiàn)6N+純度的鑒定。

提前注冊(cè)享好禮

現(xiàn)在掃描下方二維碼，或者點(diǎn)擊閱讀原文，在線填寫注冊(cè)表單，3月17日-19日蒞臨賽默飛展臺(tái)，即可領(lǐng)取一個(gè)32G高速移動(dòng)U盤?，F(xiàn)場(chǎng)掃碼登記，更有機(jī)會(huì)贏取無(wú)線充電器！