光學(xué)平臺廣泛運(yùn)用于光學(xué)、電子、精密機(jī)械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領(lǐng)域，以及其他機(jī)械行業(yè)的精密試驗(yàn)儀器、設(shè)備振動(dòng)隔離的關(guān)鍵裝置中。
隨著先進(jìn)的設(shè)備和工藝的發(fā)展，使納米量級的測量成為可能。例如，變相光學(xué)干涉儀測量物體的表面粗糙度，目前可以達(dá)到1納米的分辨率。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，已生產(chǎn)出線寬在亞微米量級的集成電路，提出測量準(zhǔn)確率小于50納米的精度要求。
這樣的應(yīng)用對系統(tǒng)中不同元件相關(guān)配合精度和穩(wěn)定性提出了比較高的要求。
例如，用顯微鏡對圖像進(jìn)行高度放大的成像系統(tǒng)，顯微鏡和照像物鏡共同決定了相紙上每點(diǎn)的圖像。如果，在曝光過程中光學(xué)系統(tǒng)的每一部分(照明系統(tǒng)、樣品、顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)、成像光學(xué)系統(tǒng)和相紙平面)都精確地一同移動(dòng)，不存在相對位移，成像也會(huì)很清晰。如果樣品相對物鏡產(chǎn)生了運(yùn)動(dòng)，則像就會(huì)模糊。在光學(xué)干涉測量、全息及運(yùn)用相似的規(guī)律時(shí)，控制相對運(yùn)動(dòng)都是很重要的。
在一個(gè)理想的剛性體內(nèi)部(只在理論上存在)，任何兩點(diǎn)的相對位置都是不變的。也就是說，在振動(dòng)、靜力矩或溫度變化的情況下，任何實(shí)體的尺寸和形狀都是不變的。如果所有的元件都穩(wěn)固地連接成一個(gè)理想的剛性體，不同元件之間沒有相對位移，系統(tǒng)的性能也會(huì)很穩(wěn)固。
理想的剛性體是不存在的。現(xiàn)實(shí)中的系統(tǒng)只能近似的認(rèn)為是剛性的，因此，其穩(wěn)定性就要受到多方面因素的影響。例如外界的振源，系統(tǒng)的重量，光學(xué)平臺的結(jié)構(gòu)等等。
