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            半導(dǎo)體潔凈室管理辦法如下

            2024-3-22  閱讀(671)

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            1、內(nèi)部要保持大于一大氣壓的環(huán)境,以確保粉塵只出不進(jìn)。所以需要大型鼓風(fēng)機(jī),將經(jīng)濾網(wǎng)的空氣源源不絕地打入潔凈室中。
            2、為保持溫度與濕度的恒定,大型空調(diào)設(shè)備須搭配于前述之鼓風(fēng)加壓系統(tǒng)中。換言之,鼓風(fēng)機(jī)加壓多久,冷氣空調(diào)也開多久。
            3、氣流方向均由上往下為主,盡量減少突兀之室內(nèi)空間設(shè)計(jì)或機(jī)臺(tái)擺放調(diào)配,使粉塵在潔凈室內(nèi)回旋停滯的機(jī)會(huì)與時(shí)間減至更低程度。
            4、建材均以不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì)為主。
            5、人事物進(jìn)出,都必須經(jīng)過(guò)空氣吹浴 (air shower) 的程序,將表面粉塵先行去除。
            6、人體及衣物的毛屑是一項(xiàng)主要粉塵來(lái)源,為此務(wù)必嚴(yán)格要求進(jìn)出使用人員穿戴無(wú)塵衣,除了眼睛部位外,均需與外界隔絕接觸 (在次微米制程技術(shù)的工廠內(nèi),工作人員幾乎穿戴得像航天員一樣。) 當(dāng)然,化妝是在禁絕之內(nèi),鉛筆等也禁止使用。
            7、除了空氣外,水的使用也只能限用去離子水 (DI water, de-ionized water)。一則防止水中粉粒污染晶圓,二則防止水中重金屬離子,如鉀、鈉離子污染金氧半 (MOS) 晶體管結(jié)構(gòu)之帶電載子信道 (carrier channel),影響半導(dǎo)體組件的工作特性。去離子水以電阻率 (resistively) 來(lái)定義好壞,一般要求至17.5MΩ-cm以上才算合格;為此需動(dòng)用多重離子交換樹脂、RO逆滲透、與UV紫外線shajun等重重關(guān)卡,才能放行使用。由于去離子水是更佳的溶劑與清潔劑,其在半導(dǎo)體工業(yè)之使用量極為驚人!
            8、潔凈室用得到的氣源,包括吹干晶圓及機(jī)臺(tái)空壓所需要的,都得使用氮?dú)?(98%),吹干晶圓的氮?dú)馍踔烈?9.8%以上的高純氮! 以上八點(diǎn)說(shuō)明是zui基本的要求,另還有污水處理、廢氣排放的環(huán)保問(wèn)題,再需要大筆的建造與維護(hù)費(fèi)用!

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