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自動氦檢漏設備
自動氦檢漏設備ALT·S系列（SUPER ALT）使用He作為檢知氣體的設備。應用ULVAC技術，運用全新機構，使得省空間、高速、全自動處理成為可能。
型號： ALT·... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 14:04:05 對比

自動氦檢漏設備愛發(fā)科 ULVAC ALT·S系列
小型凍結真空干燥設備
小型凍結真空干燥設備DFM系列醫(yī)藥域的少量生產(chǎn)以及，實驗用凍結真空干燥設備。具有省空間、低價格、高功能等實驗用途要求。為了滿足這樣的需求，愛發(fā)科商品化了DFM系...
型號： DFM系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:44:29 對比

小型凍結真空干燥設備 DFM系列真空干燥設備
晶片清洗機
本機是一款全自動晶片刷洗機，全程封閉環(huán)境采用機械手自動操作，具備刷洗甩干功能，適用于各種半導體襯底材料拋光后的刷洗，可有效減少晶片表面顆粒污染。
型號： TWB-200 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:38:32 對比

CMP
真空爐
真空爐FB系列安裝了EGR冷卻器、散熱器、蒸發(fā)器等各種熱交換器的真空爐設備。公司開發(fā)了從批次式到連續(xù)爐的豐富產(chǎn)品系列。同時面向特殊用途的設備定制。
型號： FB系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:34:56 對比

真空爐 FB系列
LSA 201 環(huán)境控制激光尖峰退火設備
Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火（LSA）系統(tǒng)具有與 LSA101 相同的架構，可在掃描激光系統(tǒng)中實現(xiàn)全晶圓環(huán)境控制。該微室在于它不需要使用真空負...
型號：所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:32:20 對比

激光退火退火爐
去膠設備
去膠設備NA-1300系列從關鍵的新世代晶圓制程到晶圓封裝，Luminous NA系列可對應廣范圍的各類晶圓尺寸的各類工藝需求。
型號： NA-1300系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:22:54 對比

去膠設備 NA-1300系列
CMP后清洗機
該系列設備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設備，采用連線式結構，設備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，...
型號： TSC-150C/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:22:51 對比

CMP后清洗
CMP后清洗機
該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗...
型號： TSC-100/3... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:15:58 對比

CMP
離子注入設備
高能對應離子注入設備SOPHI-400可達2400KeV的高能離子注入設備。
型號： SOPHI-400 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:12:16 對比

離子注入設備 SOPHI-400
離子注入設備
可對應低速高濃度的離子注入設備SOPHI-30低加速、高濃度對應的離子注入設備。
型號： SOPHI-30 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:11:02 對比

離子注入設備 SOPHI-30
離子注入設備
研究開發(fā)用中電流離子注入設備IMX-3500中電流離子注入裝置IMX-3500為大能量200keV、對應大晶圓尺寸8inch的離子注入裝置，適用于大學等機構的研...
型號： IMX-3500 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:00:40 對比

IMX-3500 離子注入設備
大氣式等離子清潔系統(tǒng)
PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統(tǒng)，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
型號： PlasmaPen... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:54:52 對比

半導體前道清洗
SiC用高溫離子注入設備
SiC用高溫離子注入設備 IH-860DSIC搭載了高溫ESC（靜電吸附卡盤）的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。
型號： IH-860DSI... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:53:53 對比

IH-860DSIC SiC用高溫離子注入設備
單片式化學清洗機
KS-CM300/200 單片式化學清洗機適用于沉積前清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、CMP后清洗等多種前段工藝（FEOL）和后段工藝（BEOL）清洗進程，可...
型號： KS-CM300/... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:21:11 對比

清洗設備
自然氧化膜去除設備
自然氧化膜去除設備去除設備RISE-300批處理式自然氧化膜去除設備RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等難以去除的自然氧化膜...
型號： RISE-300 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:09:17 對比

自然氧化膜去除設備 RISE-300 去膠設備
晶圓濕法清洗工作臺
WaferStorm平臺是先進封裝、MEMS、射頻、數(shù)據(jù)存儲和光子學市場中許多關鍵溶劑型工藝的行業(yè)選擇。有 2 個版本——手動加載（ML）和 3300 系列...
型號： 3300系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:05:35 對比

晶圓清洗清洗設備
TCO激光劃線設備
TCO激光劃線設備ULT-1400本設備通過近紅外脈沖激光燒蝕法除去玻璃基板上成膜的透明電（TCO）膜，是一種枚用式激光劃線設備。本設備由6個IR激光法陣器和光...
型號： ULT-1400 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:03:45 對比

TCO激光劃線設備 ULT-1400 去膠設備
清洗設備
SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術節(jié)點提供了優(yōu)良的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺能...
型號： ASx 系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:37:45 對比

SUSS 清洗設備研磨
功率分析儀
功率分析儀能夠測量功率參數(shù)，并能夠實時顯示四個通道的電壓、電流和功率跡線，通過一臺高速數(shù)字化儀顯示瞬態(tài)、沖擊電流和狀態(tài)變化，在時域或頻域中分析電壓、電流和功率。
型號：所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:13:28 對比

功率分析儀vvvvv 電壓測試電流測試功率測試
動態(tài)功率器件分析儀/雙脈沖測試儀
動態(tài)功率器件分析儀/雙脈沖測試儀性能介紹： 1.作為現(xiàn)成的測量解決方案，PD1500A 可以對寬帶隙半導體進行可靠且可重復的測量。該平臺不僅可以確保用戶的安...
型號：所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 21:07:39 對比

雙脈沖測試儀動態(tài)功率器件分析儀

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