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去膠機
適用于半導體及LED芯片制造領域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:16:52 對比

去膠
高密度刻蝕機
GDE C200系列高密度刻蝕機，等離子體源和頻率設計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕。
型號： GDE C200系... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:13:09 對比

GDE C200系列高密度刻蝕機北方華創(chuàng)
無掩模對光刻機
無掩模對光刻機 MLA 300 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （MES）的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
型號： MLA 300 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:12:35 對比

傳感器 MEMS 微流體器件
Amod物理氣相沉積平臺
Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應更多的...
型號：所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:10:22 對比

PVD Amod AE 物理氣相沉積
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備實現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產(chǎn)品 Loading可以，以In-...
型號： For Half ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:09:58 對比

鍍膜 For Half Mirror Coating 韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設備
程控烤膠機
LEBO science HP100-SE程控烤膠機，7寸觸屏PLC控，硬質(zhì)陽極氧化鋁面板，優(yōu)異性能，專業(yè)服務，實驗理想之選。
型號： HP100-SE標... 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:09:54 對比

烤膠機
EvoVac 物理氣相沉積平臺
EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺...
型號：埃沃維克所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:07:57 對比

EvoVac 物理氣相沉積平臺 PVD Angstrom Engineering
鋁物理氣相沉積系統(tǒng)
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
型號： eVictor A... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:07:46 對比

鋁物理氣相沉積系統(tǒng)eVictor Al PVD 北方華創(chuàng)
電感耦合等離子體化學氣相沉積ICPCVD
該ICPCVD工藝模塊設計用于在低生長溫度下生產(chǎn)高質(zhì)量的薄膜，通過高密度遠程等離子體實現(xiàn)，從而實現(xiàn)優(yōu)秀的薄膜質(zhì)量，同時減少基板損傷。
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:06:35 對比

ICPCVD 薄膜沉積等離子體低溫生長
濕法勻膠工作臺
Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺的配置和測試模塊建造和運輸安裝時間短。易于裝載和操作，所有物品都讓操作員方便地觸及。
型號： WS-1000 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:50:11 對比

半導體前道勻膠機
等離子清洗機
LEBO science的PT500真空等離子清洗機，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點：設備小巧，操作便捷：采用一鍵式...
型號： PT500 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:39:58 對比

等離子清洗
單晶圓刻蝕系統(tǒng)
憑借在蝕刻GaN，SiC和藍寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗，我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。PlasmaPro 100 Polaris單...
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:33:24 對比

刻蝕堅硬材料刻蝕
部件鍍膜設備
它實現(xiàn)高大量生產(chǎn)性的高真空基本Sputter - 可以生產(chǎn)1Batch/900EA以上的產(chǎn)品，以沉積及Sputter工序的*化，提升EMI莫品質(zhì) - 證明“沉積...
型號： HVD-1800 ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:26:45 對比

鍍膜 HVD-1800 Series 韓國真空/IOKOVA
單片濕法去膠機
用于先進封裝工藝過程中的晶圓去膠制程和金屬剝離制程。設備可搭載槽式浸泡單元、高壓噴淋或二流體噴淋去膠單元、清洗及干燥單元等工藝模塊，滿足各種品牌型號、各種厚度的...
型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:23:21 對比

去膠
去膠機
用于封裝領域中的光阻去除工藝，掩膜版清洗，OLED 領域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝及化合物半導體領域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝
型號： KS-S150-6... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:17:27 對比

光阻去除掩膜版清洗
高真空蒸發(fā)鍍膜設備
EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設備，專為薄膜制備與研究設計。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統(tǒng)、氣路系...
型號： EC400 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:13:15 對比

高真空鍍膜
電感耦合等離子體刻蝕
PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE系統(tǒng)利用高密度電感耦合等離子體實現(xiàn)快速刻蝕速率。該工藝模塊可提供出色的均勻性、高吞吐量、高精度和低損傷工藝...
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:11:50 對比

ICP 刻蝕
金屬有機物化學氣相沉積設備
適用于光電應用的 Lumina AS/P 金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)
型號： Lumina AS... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:01:07 對比

金屬有機物化學氣相沉積 MOCVD
8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
Polaris系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力。
型號： Polaris系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:01:00 對比

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
MS450高真空磁控濺射鍍膜設備詳細組成及功能如下：真空室：提供高真空環(huán)境，確保鍍膜過程的純凈性。濺射靶槍：用于安裝濺射靶材，通過高能粒子轟擊靶材表面，使靶材原...
型號： MS450 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:55:33 對比

物理氣相沉積