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氧化硅拋光液的性能特點(diǎn)，一看便知
閱讀：1027 發(fā)布時(shí)間：2021-7-8
氧化硅拋光液是針對(duì)不同研磨材料的特性進(jìn)行*的配方設(shè)計(jì)，拋光過(guò)程中，pH值基本保持不變，從而保證拋光速率的穩(wěn)定，并節(jié)約拋光時(shí)間。廣泛用于多種材料納米級(jí)的化學(xué)機(jī)械拋光。如：藍(lán)寶石材料、硅片、不銹鋼、鋁鎂合金、化合物晶體等的拋光加工。
由于納米二氧化硅成本相對(duì)較低，且具有良好的分散性、機(jī)械磨損性，高度度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料。因而常被用于金屬、藍(lán)寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導(dǎo)攝像管等表面準(zhǔn)確拋光。
氧化硅拋光液的性能特點(diǎn)都有哪些呢？
1、均勻的球形SiO2粒子；可循環(huán)使用多次；
2、去除率高，拋光性能穩(wěn)定；可選用中性或弱酸性拋光液對(duì)應(yīng)。
3、精密的拋光質(zhì)量，Ra＜0.2nm、TTV＜3μm；
4、有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。
5、適用于35℃以下的低溫拋光工藝；
6、高達(dá)到高平坦化研磨加工。
7、該拋光液由高純納米二氧化硅復(fù)合配置而成，通過(guò)高科技術(shù)分散成納米顆粒，高含量分散均勻的納米拋光液。
8、拋光速平坦度加工，拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子，不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷，速率快，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達(dá)到高速拋光的目的
9、高純度，拋光液不腐蝕設(shè)備，使用的安全性能高。
氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。本產(chǎn)品可用于硅晶圓、藍(lán)寶石等半導(dǎo)體及襯底材料的粗拋和精拋，具有拋光速率高，拋光后易清洗，表面粗糙度低，能夠得到總厚偏差（TTV）極小的質(zhì)量表面。