小型化設計：主機尺寸為 300mm（寬）×450mm（深）×450mm（高），結構緊湊，占用空間小，便于在實驗室等空間有限的環(huán)境中使用。

內置隔振機構：采用浮動結構有效抑制振動，確保光刻過程的精度和穩(wěn)定性，無需額外配備復雜的隔振臺，降低了對使用環(huán)境的要求。

內置真空吸油泵：可牢固固定工作臺上的基片或樣品，防止在光刻過程中發(fā)生位移，保證曝光的準確性。

低使用成本：相比大型光刻設備，能源消耗和維護成本較低，且不需要使用冷卻液體和壓縮氣體等額外輔助設備，降低了設備運行的復雜性和成本。

用戶友好型接口：操作軟件界面簡潔直觀，易于上手，方便用戶進行操作和參數(shù)設置。

簡易流程：光刻操作流程簡單，用戶將設計好的圖形導入軟件，選擇相應的曝光參數(shù)即可進行光刻操作，提高了工作效率。

支持對準和曝光條件檢查：對于對準精度要求較高的光刻工藝，能夠提供準確的對準功能，用戶還可在軟件中檢查曝光條件，以便及時調整參數(shù)，保證光刻效果。

曝光光源：采用 365nm（典型值）的 LED 光源，能量穩(wěn)定性高，使用壽命長，可滿足多種光刻膠的曝光需求。

線寬精度：使用不同物鏡可實現(xiàn)不同的最小線寬，如使用 ×10 物鏡時，最小線寬可達 3μm；使用 ×2 物鏡時，最小線寬為 15μm。

曝光面積：單次曝光面積因物鏡而異，使用 ×10 物鏡時，單次曝光面積為 1mm×0.6mm；使用×2 物鏡時，單次曝光面積為 5mm×3mm。最大曝光區(qū)域為 25mm×25mm（手動或自動連接）。

兼容文檔格式：可接受的文檔格式豐富，包括 dxf、jpeg、png、bitmap、xps 等，方便用戶導入各種設計圖形。