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碳鍍膜機與高真空蒸發(fā)設(shè)備的區(qū)別

碳鍍膜機主要分為僅有旋轉(zhuǎn)泵排氣的設(shè)備或配備渦輪泵的高真空蒸發(fā)設(shè)備。了解高真空蒸發(fā)設(shè)備性能的差異在選擇設(shè)備時非常有用。

	旋轉(zhuǎn)泵排氣氣相沉積設(shè)備 VC-300S/W、VES-10	高真空抽真空沉積設(shè)備 VE-2013、VE-2050 等
真空排氣系統(tǒng)	旋轉(zhuǎn)泵	旋轉(zhuǎn)泵+渦輪分子泵
沉積真空度	1-2（帕）	5×10 -3 (Pa)以下
顆粒感	顆粒細，但膜較粗。	顆粒細密，膜質(zhì)美觀。
膜質(zhì)量	該薄膜粗糙且易碎，因為它在與殘余分子碰撞時積累。	無殘留分子，顆粒呈直線飛行、粘附，膜質(zhì)潔凈、堅固。
環(huán)繞能力	它在與殘余分子碰撞時向多個方向散射，因此具有一些環(huán)繞特性。	顆粒沿直線飛行并粘附，但在陰影區(qū)域不形成薄膜。
使用碳氣相沉積的目的	切片和支撐膜的加固、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護膜等。	切片和支撐膜的強化、元素分析、高倍SEM觀察、FIB保護膜、碳支撐膜的制作、遮蔽法等。

*碳鍍膜機是針對特定用途而設(shè)計的，其用途有限，但可以降低設(shè)備價格。

該裝置是用于TEM、SEM、X射線分析等的碳膜生成裝置。用于防止樹脂嵌入樣品等的充電。 300W 用于創(chuàng)建特別厚的碳膜，例如 XMA 和 FIB 樣品的保護膜。

使用旋轉(zhuǎn)泵進行碳沉積，同時使用皮拉尼真空計監(jiān)測真空水平。通過始終蒸發(fā)一定量的碳，可以實現(xiàn)高度可再現(xiàn)的碳沉積。

請使用專用補充裝SLC-30作為碳源。
300S有一對電極，300W有兩對電極。 300W 使您可以通過開關(guān)將涂層厚度增加一倍。
旋轉(zhuǎn)泵（RP）為外置落地式。請將其安裝在堅固的工作臺上，以免與RP的振動產(chǎn)生共振。無需水冷。

該產(chǎn)品是一套裝置，包括裝置本身、旋轉(zhuǎn)泵和 SUS 軟管。
需要親臨現(xiàn)場講解安裝和操作。

VC-300設(shè)備規(guī)格

物品	規(guī)格
電源	AC100V（單相100V 15A）
設(shè)備尺寸	W255mm x D375mm x H430mm 重量 18kg
旋轉(zhuǎn)泵	排氣速度 50?/min (GLD-051) 重量 14.6kg
樣品室尺寸	內(nèi)徑120mm x 高140mm
樣品臺尺寸	Φ100mm
氣相沉積源-樣品臺距離	45mm 至 75mm 可調(diào)
可安裝樣品尺寸	Φ98mm，最大樣品高度40mm
氣相沉積電源	排氣、蒸發(fā)。 每個固定電壓進行 2 步切換，預(yù)設(shè)為最佳電壓
碳源	專用補充型碳SLC-30

VC-300 耗材清單

如果夾緊彈簧和防塵板等零件出現(xiàn)劣化或損壞，我們還可以單獨制造它們。
對于任何其他維護/維修查詢，請通過服務(wù)查詢與我們聯(lián)系。