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            首頁>>鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>視頻展示>>小型濺射儀>>直流磁控濺射儀鍍膜原理

            直流磁控濺射儀鍍膜原理
            發(fā)布時間:2025-05-10 播放次數(shù)13次
            視頻簡介

            直流磁控濺射儀的工作原理基于等離子體放電和磁場約束效應(yīng):

            輝光放電:在真空腔室內(nèi)通入惰性氣體(如Ar),通過施加直流高壓,兩極間形成電場,引發(fā)氣體電離并產(chǎn)生等離子體。

            磁場約束:靶材表面設(shè)置正交磁場,通過洛倫茲力約束電子運動軌跡,延長電子路徑,增加與氣體的碰撞概率,從而提高等離子體密度和濺射效率。

            濺射成膜:高能離子轟擊靶材表面,使靶材原子沉積到基材上形成致密薄膜。此過程需控制熱量,避免樣品灼傷。


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