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            行業(yè)產(chǎn)品

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            天津津梁儀器設(shè)備有限公司>>技術(shù)文章>>高能激光測(cè)試儀激光持續(xù)時(shí)間測(cè)試

            高能激光測(cè)試儀激光持續(xù)時(shí)間測(cè)試

            閱讀:474        發(fā)布時(shí)間:2023-11-6

            該產(chǎn)品采用了積分球技術(shù)、抗激光輻射漫射涂層技術(shù)、高精度激光能量和波形采樣技術(shù),具有抗激光破壞閾值高、響應(yīng)時(shí)間快、恢復(fù)時(shí)間短和測(cè)試參數(shù)多等特點(diǎn)。適用于高能激光器及其系統(tǒng)的激光輸出參數(shù)快速測(cè)試,可同時(shí)對(duì)多個(gè)激光參量進(jìn)行快速測(cè)試。
            激光輸出能量測(cè)試
            激光輸出波形測(cè)試
            輸出激光功率測(cè)試
            激光持續(xù)時(shí)間測(cè)試
            激光峰值功率測(cè)試
            存儲(chǔ)和結(jié)果查詢
            技術(shù)參數(shù):
            適用激光波長(zhǎng):1.315μm或3.8μm
            激光能量:1~3000kJ
            顯    示:LCD
            積分球直徑:1000mm
            輸入口徑:220mm
            響應(yīng)時(shí)間:≤3s
            *大激光功率:300kW
            不確定度:≤10%
            計(jì)算機(jī)接口:485接口
            電    源: 功耗:≤20W
            外形尺寸(W×H×D): 積分球探測(cè)器:≤1100mm×1500mm×1050mm
            顯示其外形尺寸:≤350mm×160mm×330mm
            重量:≤380kg

            KPBGS-6341電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀

            該儀器是為解決微電子、光電子科研與生產(chǎn)中基片平整度及薄膜應(yīng)力分布的測(cè)試而設(shè)計(jì)的。它通過測(cè)量每道工序前后基片面形的變化(變形)來測(cè)量曲率半徑的變化及應(yīng)力分布,從而計(jì)算薄膜應(yīng)力。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件工藝研究及質(zhì)量控制,為改善半導(dǎo)體器件可靠性提供測(cè)試數(shù)據(jù)。
            本儀器適用于測(cè)量Si、Ge、CaAs等半導(dǎo)體材料的基片平整度,以及氧化硅、氮化硅、鋁等具有一定反光性能的薄膜的應(yīng)力分布。
            技術(shù)參數(shù):
            測(cè)試硅片尺寸:2~4英寸
            硅片曲率范圍:|R|> 5米
            測(cè)試精度:5%(在R=±8米處考核)
            單片測(cè)試時(shí)間:3分鐘/片
            輸出結(jié)果類型:面形、曲率分布、梯度分布和應(yīng)力分布
            圖形顯示功能:三維立體顯示、二維偽彩色顯示、統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)表格
            電    源:AC 220(1±10%)V,50(1±5%)Hz
            *大功耗:100W
            外形尺寸:285mm×680mm×450mm
            重    量:≤36kg

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