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            江蘇天翎儀器有限公司
            中級(jí)會(huì)員 | 第9年

            18961996080

            恒溫制冷設(shè)備
            超聲波設(shè)備
            光化學(xué)儀器
            培養(yǎng)箱、干燥箱
            樣品處理設(shè)備
            實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備
            微生物檢測(cè)儀器
            生命科學(xué)儀器
            恒溫?fù)u床
            反應(yīng)釜

            關(guān)于使用后超聲波破碎儀要怎樣清洗

            時(shí)間:2024/6/13閱讀:513
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            超聲波破碎儀TL-650Y,具有超溫、過(guò)載、時(shí)間報(bào)警功能,參數(shù)靈活,實(shí)驗(yàn)重復(fù)性好;處理范圍廣,可選配多種型號(hào)變幅桿,滿足不同客戶的需求。而超聲波破碎儀使用后,清洗也是避免不了的。那么,使用超聲波破碎儀后,怎樣清洗呢?
              1、溶劑清洗溶劑清洗,是比較傳統(tǒng)清洗的方法,清洗速度快,效率比較高,而且溶劑本身可以不斷蒸餾再生,循環(huán)使用。不過(guò),光學(xué)玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕,均為封閉車(chē)間,溶劑的氣味對(duì)于工作環(huán)境會(huì)有一定的影響,尤其是使用不封閉的半自動(dòng)清洗設(shè)備時(shí)。

            關(guān)于使用后超聲波破碎儀要怎樣清洗

              2、半水基清洗半水基清洗,是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)而得來(lái)的,可以有效地避免溶劑的一些弱點(diǎn),比如說(shuō),做到無(wú)毒、氣味輕微、廢液可排入污水處理系統(tǒng);設(shè)備上的配套裝置少;使用周期比溶劑更長(zhǎng);在運(yùn)行成本上也比溶劑更低。而且對(duì)于研磨粉等無(wú)機(jī)污染物半水基清洗劑也具有良好的清洗效果,極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力,延長(zhǎng)了水基清洗劑的使用壽命,減少了水基清洗劑的用量,降低了運(yùn)行成本。
              3、鍍膜前清洗 鍍膜前清洗,主要污染物是求芯油、手印、灰塵等。鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴(yán)格,清洗劑的選擇也是很重要的。在考慮清洗劑的清洗能力的同時(shí),還需要考慮到腐蝕性等方面的問(wèn)題。
              4、鍍膜后清洗 鍍膜后清洗,一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗。相較而言,接合前清洗要求嚴(yán)格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物,清洗難度不大,但對(duì)于鏡片表面潔凈度有非常高的要求。


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