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光刻工藝技術(shù)基礎(chǔ)-表面處理

閱讀：3704 發(fā)布時(shí)間：2017-8-12

光刻工藝技術(shù)基礎(chǔ)-表面處理

表面處理-光刻膠的特性

跟空氣的界面：

如果表面活性不恰當(dāng)，會(huì)形成涂花等光刻膠表面缺陷，一般的解決辦法是添加表面活性劑，或改變涂膠條件（ e.g.閉蓋）。

跟襯底的界面：

如果表面活性不恰當(dāng)，會(huì)引起脫膜或圖形移位等問(wèn)題。解決辦法包括提高膠的粘附性、HMDS預(yù)處理和使用BARC。

表面處理

晶元容易吸附潮氣到它的表面。光刻膠黏附要求要嚴(yán)格的干燥表面，所以在涂膠之前要進(jìn)行脫水烘焙和黏附劑的涂覆。脫水烘焙的溫度通常在 140度到200度之間。有時(shí)還要用到黏附劑，黏附劑通常使用HMDS （六甲基二硅胺脘）。表面處理的主要作用是提高光刻膠與襯底之間的粘附力，使之在顯影過(guò)程中光刻膠不會(huì)被液態(tài)顯影液滲透。(如下圖)

HMDS 可以用浸泡、噴霧和氣相方法來(lái)涂覆。HMDS（六甲基二硅氮甲烷）把它涂到硅片表面后，通過(guò)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主題的化合物，這實(shí)際上是一種表面活性劑，它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié) 合，起到耦合的作用，再者，在顯影的過(guò)程中，由于它增強(qiáng)了光刻膠與基底的粘附力，從而有效地抑制圖形移位。