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            二氧化硅分析儀的基本工作原理解析

            閱讀:689      發(fā)布時(shí)間:2023-4-17
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              二氧化硅分析儀(Silicon Dioxide Analyzer)是一種常用于工業(yè)生產(chǎn)中分析固體或液體樣品中二氧化硅含量的儀器。其原理是利用高溫燃燒后樣品中的二氧化硅與循環(huán)空氣中的鈉堿金屬生成草酸鹽,再被酞菁鈷吸收發(fā)射光譜分析得到。通常被廣泛應(yīng)用于玻璃、陶瓷、建材、電子、冶金、石油等多個(gè)領(lǐng)域。其有許多優(yōu)點(diǎn),如高度自動(dòng)化、分析速度快、精度高、重復(fù)性好等。由于二氧化硅是一種非常重要的工業(yè)原料,因此該儀器在工業(yè)生產(chǎn)線上具有不可替代的作用。通常由五個(gè)部分組成:樣品處理單元、加熱單元、燃燒單元、草酸鹽生成裝置和檢測(cè)單元。其主要原理如下:
             
              樣品處理單元:將待分析的固態(tài)或液態(tài)樣品加工成適合分析的形式加入到分析系統(tǒng)中;
             
              加熱單元:將樣品等加熱至高溫狀態(tài),這有助于分析過(guò)程中二氧化硅的分解反應(yīng),同時(shí)使物料揮失不需要的水分和雜質(zhì);
             
              燃燒單元:將加工好的樣品進(jìn)行燃燒,使較高濃度的二氧化硅被氣態(tài)化并進(jìn)入草酸鹽生成裝置;
             
              草酸鹽生成裝置:將氣態(tài)的二氧化硅與循環(huán)空氣中的鈉堿金屬反應(yīng)生成草酸鹽,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)二氧化硅的有效吸收;
             
              檢測(cè)單元:通過(guò)吸收草酸鹽反應(yīng)產(chǎn)生的特定光譜發(fā)射信號(hào),并據(jù)以計(jì)算出樣品中二氧化硅的含量。
             
              值得注意的是,該儀器使用時(shí)需要嚴(yán)格控制儀器中的氧氣濃度和反應(yīng)溫度等參數(shù),以確保測(cè)試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。同時(shí),為避免干擾因素的影響,還需在運(yùn)行過(guò)程中經(jīng)常清洗分析系統(tǒng)和更換化學(xué)試劑等。
             
              二氧化硅分析儀的操作使用可以按照以下步驟進(jìn)行:
             
              1.根據(jù)要測(cè)量的樣品類(lèi)型和測(cè)試要求,選取合適的樣品,并按照說(shuō)明書(shū)操作將其制樣并儲(chǔ)存。
             
              2.接通電源后,在主機(jī)上打開(kāi)電源開(kāi)關(guān),待屏幕亮起并進(jìn)入測(cè)試狀態(tài)時(shí)即可進(jìn)行下一步操作。
             
              3.將制好的樣品放入試樣池內(nèi),并根據(jù)說(shuō)明書(shū)設(shè)置測(cè)試參數(shù),如溫度范圍、時(shí)間等參數(shù)。在配置好所有參數(shù)之后,單擊“開(kāi)始”按鈕開(kāi)始測(cè)試過(guò)程。
             
              4.測(cè)試完成后,將獲得二氧化硅含量的數(shù)據(jù),并且顯示在屏幕上,可保存該數(shù)據(jù)以供參考和分析。
             
              5.測(cè)試過(guò)程結(jié)束后,需要對(duì)設(shè)備進(jìn)行清潔工作,以便下次使用,清洗步驟需要謹(jǐn)慎按照設(shè)備說(shuō)明書(shū)的要求進(jìn)行。

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