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            徠卡顯微系統(tǒng)(上海)貿(mào)易...

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            徠卡邀您參觀2021中國(guó)材料大會(huì)暨展覽會(huì)

            閱讀:990      發(fā)布時(shí)間:2021-8-9
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            7月9-11日

            2021中國(guó)材料大會(huì)暨展覽會(huì)即將于7月9-11日廈門(mén)國(guó)際會(huì)展中心召開(kāi),徠卡顯微系統(tǒng)受邀參會(huì)。

            公司簡(jiǎn)介

            徠卡顯微系統(tǒng)總部位于德國(guó)維茲拉,自公司十九世紀(jì)成立以來(lái),徠卡以其對(duì)光學(xué)成像的追求和不斷進(jìn)取的創(chuàng)新精神始終得到業(yè)界廣泛認(rèn)可。徠卡在復(fù)合顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微系統(tǒng)、激光共聚焦掃描顯微系統(tǒng)、電子顯微鏡樣品制備和醫(yī)療手術(shù)顯微技術(shù)等多個(gè)顯微光學(xué)領(lǐng)域處于世界優(yōu)先地位。自創(chuàng)立至今,徠卡的光學(xué)足跡已遍及全球100多個(gè)國(guó)家,在歐洲、亞洲與北美有6大產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)基地,在20多個(gè)國(guó)家設(shè)有銷(xiāo)售或服務(wù)支持中心,以及遍布全球的經(jīng)銷(xiāo)商服務(wù)網(wǎng)絡(luò)。

            展位號(hào):H01
            徠卡顯微系統(tǒng)展品
            展品介紹:徠卡EM TIC 3X離子研磨儀



            圖片

            徠卡EM TIC 3X通過(guò)離子槍激發(fā)獲得的離子束,以垂直于樣品側(cè)面縱向轟擊樣品,可獲得高質(zhì)量無(wú)應(yīng)力“切割"的樣品截面,便于SEM觀察。該處理方法適用于多層膜材料、軟硬復(fù)合材料等高難度制備樣品,并且操作簡(jiǎn)單,可有效避免涂抹效應(yīng),不需要大量摸索條件即可獲得理想的截面,使樣品暴露內(nèi)部細(xì)微真實(shí)結(jié)構(gòu)信息。還可選配旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),冷凍樣品臺(tái),三樣品臺(tái)等,滿(mǎn)足各種應(yīng)用及高通量需求。
            展品介紹:徠卡EM TXP 精研一體機(jī)


            圖片

            徠卡EM TXP是一款多功能機(jī)械修塊研磨拋光一體機(jī),適用于對(duì)目標(biāo)定位,進(jìn)行銑削、切割、沖鉆、研磨、修塊及拋光等。特別適合于對(duì)樣品微小目標(biāo)的精細(xì)定位、切割等加工。其主要功能為:可用于光鏡觀察前樣品切割、機(jī)械拋光等制備;可用于EM TIC 3X/UC7樣品前制備,對(duì)樣品進(jìn)行機(jī)械修塊;還可用于EM RES102樣品前制備,獲得Φ3mm樣品圓薄片。
            展品介紹:徠卡EM ACE600高真空鍍膜儀


            圖片

            徠卡EM ACE600是一款高真空鍍膜儀,采用全無(wú)油真空系統(tǒng),真空度可達(dá)2x10-6mbar。鍍膜細(xì)膩均勻。內(nèi)置石英膜厚監(jiān)控器,可精確控制鍍膜厚度。全自動(dòng)電腦控制,自動(dòng)完成抽真空,鍍膜,放氣等全過(guò)程,一鍵操作??蛇x離子濺射鍍膜功能,滿(mǎn)足高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡需求,可選碳絲碳棒蒸發(fā)鍍膜功能,用于X射線(xiàn)能譜及波譜分析,或者TEM銅網(wǎng)噴碳膜。還可選擇電子束蒸發(fā)鍍膜,用于DNA投影等高級(jí)應(yīng)用。
            展品介紹:徠卡M205光學(xué)顯微鏡


            圖片

            革新性的光學(xué)概念,克服了傳統(tǒng)體視顯微鏡的固有局限性,擁有徠卡Fusion Optics融合光學(xué)技術(shù)。Leica M205 C是擁有20.5:1變倍比的體視顯微鏡,光學(xué)分辨率高達(dá)0 . 9 2 5 μ m ,內(nèi)置可調(diào)雙光闌,可調(diào)景深和分辨率。同時(shí)M205 C也是一款編碼顯微鏡,可自動(dòng)控制照明強(qiáng)度,可自動(dòng)識(shí)別所采集的照片倍數(shù),并加載相應(yīng)倍數(shù)的比例尺。存儲(chǔ)圖像時(shí),參數(shù)隨同圖像一起保存,以便隨時(shí)調(diào)用。



            圖片

            徠卡顯微系統(tǒng)報(bào)告

            分會(huì)場(chǎng)D06

            先進(jìn)微電子與光電子材料

            報(bào)告題目

            芯片的電鏡制樣方法

            報(bào)告人

            包沈源(徠卡顯微系統(tǒng)電鏡制樣應(yīng)用工程師

            報(bào)告時(shí)間

            7月9日15:50-16:05

            分會(huì)場(chǎng)E02 

            材料界面/表面分析與表征

            報(bào)告題目

            材料平整斷面的制備和觀察方法

            報(bào)告人

            武素芳(徠卡顯微系統(tǒng)電鏡制樣應(yīng)用工程師)

            報(bào)告時(shí)間

            7月10日17:05-17:25

            展區(qū)現(xiàn)場(chǎng)技術(shù)報(bào)告

            現(xiàn)場(chǎng)會(huì)議區(qū)B

            報(bào)告題目

            徠卡電鏡制樣在新能源和半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的應(yīng)用

            報(bào)告人

            包沈源(徠卡顯微系統(tǒng)電鏡制樣應(yīng)用工程師

            報(bào)告時(shí)間

            7月10日13:30-14:00

            了解更多:徠卡顯微

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